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真空蒸发镀膜机:通过加热材料使其蒸发并沉积在基板表面形成薄膜。这类设备操作简单、制备工艺成熟,广泛应用于金属、二氧化硅、氧化锌和有机聚合物等材料的薄膜制备。
溅射镀膜机:
直流溅射镀膜机:利用直流电场使气体电离并轰击靶材,使靶材原子或分子溅射到基板上形成薄膜。
射频溅射镀膜机:利用射频电源产生高频电场,使气体电离并轰击靶材进行溅射镀膜。
磁控溅射镀膜机:采用磁场控制电弧溅射金属材料使其沉积在衬底表面上,形成薄膜。这种镀膜机具有工艺参数易调节、薄膜均匀度好等特点,并且可以应用于多种金属和非金属材料的薄膜制备。
将待镀膜物体放置在真空室内,通过真空泵系统(通常由机械泵和分子泵组成)排除室内气体,创造一个高真空环境。
准备镀膜材料:
根据需要制备的薄膜类型,选择相应的镀膜材料。常用的镀膜材料包括金属、氧化物、氮化物等。
蒸发镀膜:
镀膜材料在真空环境下受热,由固相转变为气相,然后随着气体扩散沉积在待镀膜物体表面。
常用的蒸发方式包括电子束蒸发、阻焦蒸发、溅射镀膜等。
薄膜薄:真空镀膜所获得的金属膜层很薄,一般为0.01~0.1um。
可镀材料广泛:可镀多种金属氮化物薄膜、金属氧化物薄膜、金属碳化材料及各种复合薄膜。
成膜温度低:避免了传统镀膜工艺的高温缺点,可降低到常温。
环保:不使用有害气体或液体,对环境无不良影响。
薄膜质量高:可获得均匀、光滑、极薄、纯度高、耐蚀性好、附着力强的薄膜。
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