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真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备,其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物,都可以气相沉积各种金属膜和介质膜,不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
真空镀膜设备由许多不同的零件组成,它们都是经过各种机械加工完成的,例如车铣、刨、磨、镗、焊接等。零件组装前必须清除掉污染物。真空镀膜设备在使用过程中,零件还会受到污染。这种污染与使用条件及真空泵有关。真空镀膜设备有:立式,卧式。可加工的产品包括:手机、DVD、MP3、PDA外壳、按键、化妆品外壳、工艺礼品,玩具。有机高分子镀膜设备工厂哪里近
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