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首先,将待镀膜物体放置在真空室内。
接着,通过真空泵系统(通常包括机械泵和分子泵)排除真空室内的气体,以创造一个高真空环境。这种高真空环境有助于减少气体和杂质对镀膜过程的干扰,确保镀膜质量。
镀膜材料的准备:
根据需要制备的薄膜类型,选择相应的镀膜材料。常用的镀膜材料包括金属、氧化物、氮化物等。
这些材料通常以块状或颗粒状的形式放置在镀膜设备的固体样品舟中。
真空镀膜设备通过创建真空环境、蒸发镀膜材料并沉积在待镀膜物体表面,实现对物体的镀膜处理,从而改变物体的光学、电学、热学等性质。这一工作原理被广泛应用于光学器件、电子元件、玻璃制品等各个领域。
根据镀膜的具体需求和目标,选择合适的镀膜材料。例如,金属镀膜常选用铜、铝、钛等材料。
考虑材料的化学性质、光学性质、机械性质和成本等因素,确保材料与目标基片具有良好的相容性
在使用前,确保镀膜材料表面干净、无油污、尘埃或其他杂质。这些杂质可能会影响镀膜的质量和均匀性。
使用铜刷或研磨工具对材料进行打磨,去除表面的氧化物、挥发性有机物和水分等。
在进行镀膜前,确保真空室内部干净、无杂质。使用专门的真空泵将空气抽空,以获得一个高真空度的环境。
对真空室内的设备和配件进行清洁和处理,避免对镀膜产生不良影响。
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