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主营：铝合金电镀,铝合金真空镀膜,铝合金真空钛金
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真空镀膜和光学镀膜的概念和区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
真空镀膜是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种干式镀膜方法。
在应用中大体可分为：真空沉积、等离子体沉积、离子束沉积、离子束辅助沉积、等离子体喷涂等。以上所述各种方法统称为物理气相沉积。所不同的是把液体或固体成膜材料运输在基材表面沉积或与其他活性气体反应形成反应物在基体上沉积为固相薄膜的物理方式。真空镀膜工艺除了对基材起到保护作用外还赋予基材不同的外观效果以此来丰富人们的审美。真空电镀作为真空镀膜工艺之一被广泛应用于诸多领域，而我们化妆品外包装行业也是此工艺的应用和推广者之一。如下图所示，所采用的方式多为高温蒸发真空沉积。
真空蒸发镀膜中采用的被镀材料称为薄膜材料，简称膜材或镀材。在溅射镀膜中称为靶材如果从所用薄膜材料的种类来看，主要分为以下几种薄膜材料。
（1）纯金属材料
对于纯金属材料，由于它的蒸发（升华）是单一的，因此，淀积到基体上的薄膜材料与从蒸发源上发出来的膜材完全相同。只要避免它在加热蒸发过程中杂志的混入，就可以得到组分单一的纯金属膜层。
（2）金属合金
蒸发合金时会出现分馏（成分的部分分离）。因为不同金属的蒸发速率的差异。
（3）绝缘体和介质
大多数绝缘体和介质蒸发时会发生分解，或与加热器材料发生化学变化。由于两者都和蒸发源温度有关。因此淀积膜的成分随蒸发源温度而变化。
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