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东莞菱威纳米科技有限公司
主营：Parylene派瑞林,真空镀膜,表面处理
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派瑞林（parylene）材料本身的阻挡特性远优于其它高分子涂层，作为一种阻挡层可有效地防止各种阴阳离子的扩散迁移，从而可靠地保护产品；派瑞林（Parylene）涂层工艺有效阻止了离子在涂层和产品基板界面的扩散，大大减少了常见的涂层内腐蚀。
派瑞林（parylene）材料作为涂层，派瑞林（parylene）超薄、无孔隙、均匀、同形性好、耐腐蚀、与人体组织及血液相容等一系列优点,使其在生物医学领域应用广泛, Parylene不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，可有效防止外界的化学品、水分和体液的侵蚀,同时增加了器件表面的干润滑性和绝绿性能。
考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。
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