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另外,当湿度过高时,粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面,难以清理。相对湿度越高,去除附着越困难。而当相对湿度低于30%时,由于静电力的作用,颗粒容易吸附在表面,大量半导体器件容易击穿。
净化工程压力调节
对于大多数洁净空间来说,要保持内压(静压)高于外压(静压),以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:
1.洁净空间压力高于不洁净空间压力。
2.洁净度高的空间压力高于相邻的洁净度低的空间压力。
保持压力差的方法是用新风量来补偿在压力差下通过间隙排出的空气量。因此,压差的物理意义是对通过洁净室各种间隙的泄漏(或渗透)风量的阻力。
净化工程洁净室的气流速度
这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度,其他洁净空间的气流速度将在具体设备的讨论中进行说明。
净化工程单向流动洁净室一般有两种类型,即水平流动和垂直流动。在水平流动系统中,空气从一面墙流向另一面墙。在垂直气流系统中,空气从天花板流向地面。当洁净室内悬浮颗粒或微生物浓度较低时,采用单向气流。这种洁净室以前被称为“层流”洁净室。单向流和层流的名称描述的是空气在一个方向(垂直或水平)以0.3到0.5米/秒(60到100英尺/分钟)的平均速度通过空间的流动。
净化工程的优点就是构件成本比较低,而且洁净室想要扩展也很容易。在一些特殊用途的场合,可以使用这个无尘工作台来提高整体的等级。当这个微尘粒子漂浮在室内空间的时候是不容易排出的,容易造成一个污染过程,但是这是早一点都能够被整改,而且大部分都是优点,这一点就没有什么了。
让产品在一个良好的环境当中生产和制造,比如说设计的过程,就是净化工程的全部意义。
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