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该装置由汽化炉、分解炉、重合室这3个部分组成,在重合室中放置对象物品,在汽化炉中放置Parylene (粉体)。
在装置内进行减压操作后,升高汽化炉的温度(120~180℃),使Parylene升华。 通过真空泵将该气体引导至蒸汽粘合室,通过高温(650~700℃)分解炉后,生成热分解单体。该单体在室温状态下的重合室内与对象物品相接触,其含有的热量被传导后在对象物品的表面进行聚合,形成高分子量的聚对二树脂膜。
真空蒸镀基本原理:在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子東轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历,真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
溅射镀膜基本原理:充(Ar)气的真空条件下,使气进行辉光放电,这时(Ar)原子电离成氮离子(Ar),离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子,一般采用辉光放电获得,在10-2pa~10Pa范围,所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中,易和真空室中的气体分子发生碰撞,使运动方向随机,沉积的膜易于均匀。
离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而,整个工件,特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广,受到的局限性则较小。通常,各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属,也可在非金属上镀金属或非金属,甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。
PVD镀膜技术其功应用,主要是装饰镀膜和工具镀膜。对于帮助企业产品提升产品的耐磨性、耐腐蚀性和保持化学稳定性等特点,可谓功不可没。
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