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东莞拉奇纳米科技有限公司
主营：纳米镀膜
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一代光学镀膜原理
抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。真空蒸镀技术已经广泛应用于OLED、有机光伏、光学膜、新型半导体、装饰镀膜等领域，为一种镀膜技术。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的抗磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此抗磨损效果不理想。
二代光学镀膜原理
20世纪80年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较低，但变形较大。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，真空镀膜对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（10-5Pa）。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。
电子镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。其工艺流程一般如下：
1、表面处理：通常，电子镀膜之前，应对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理，以保证镀件的整洁、干燥，避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料，如PE（聚乙烯）料等，还应对其进行改性，以达到镀膜的预期效果。
2、底涂：底涂施工时，可以采用喷涂，也可采用浸涂，具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定
随着信息产业的不断发展，磁性元件越来越趋向于小型化，3-5㎜的软磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不断被应用，对磁材的防护提出了新的要求。小型软磁芯作饶线器件时，经聚对二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的电压，由于聚对二摩擦系数低，饶成操会更滑溜，不伤线，更便于操作，稀土钕铁硼永磁材料是一种强磁材料，但这种材料在空气中很不稳定，尺寸较大的通常用电镀或环氧电泳漆作防护涂层，尺寸较小的磁材，特别是环型和筒形的磁材，已不能用上述传统方法实现可靠防护，满足使用要求。其防尘、防潮、防水的耐透气性效果，可使产品达到国际性防尘、防水的IP等级规范(*注1)。Parylene*的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型超小型磁材，几乎都采用Parylene作绝缘和防护涂层。
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第6年
