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真空蒸发镀膜机:通过加热材料使其蒸发并沉积在基板表面形成薄膜。这类设备操作简单、制备工艺成熟,广泛应用于金属、二氧化硅、氧化锌和有机聚合物等材料的薄膜制备。
溅射镀膜机:
直流溅射镀膜机:利用直流电场使气体电离并轰击靶材,使靶材原子或分子溅射到基板上形成薄膜。
射频溅射镀膜机:利用射频电源产生高频电场,使气体电离并轰击靶材进行溅射镀膜。
磁控溅射镀膜机:采用磁场控制电弧溅射金属材料使其沉积在衬底表面上,形成薄膜。这种镀膜机具有工艺参数易调节、薄膜均匀度好等特点,并且可以应用于多种金属和非金属材料的薄膜制备。
薄膜薄:真空镀膜所获得的金属膜层很薄,一般为0.01~0.1um。
可镀材料广泛:可镀多种金属氮化物薄膜、金属氧化物薄膜、金属碳化材料及各种复合薄膜。
成膜温度低:避免了传统镀膜工艺的高温缺点,可降低到常温。
环保:不使用有害气体或液体,对环境无不良影响。
薄膜质量高:可获得均匀、光滑、极薄、纯度高、耐蚀性好、附着力强的薄膜。
真空镀膜设备的应用范围广泛,包括但不限于:
硬质涂层:切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。
防护涂层:飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。
光学薄膜:增透膜、高反膜、截止滤光片等。
建筑玻璃:阳光控制膜、低辐射玻璃等。
太阳能领域:太阳能集热管、太阳能电池等。
集成电路制造:薄膜电阻器、薄膜电容器等。
电子产品领域:液晶显示器、液晶电视等
首先,将待镀膜物体放置在真空室内。
接着,通过真空泵系统(通常包括机械泵和分子泵)排除真空室内的气体,以创造一个高真空环境。这种高真空环境有助于减少气体和杂质对镀膜过程的干扰,确保镀膜质量。
镀膜材料的准备:
根据需要制备的薄膜类型,选择相应的镀膜材料。常用的镀膜材料包括金属、氧化物、氮化物等。
这些材料通常以块状或颗粒状的形式放置在镀膜设备的固体样品舟中。
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