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(1)取下阳极氧化,加去杂水5ml/l,加温60—70度C,气体拌和2钟头。(手头上无牢固去杂剂时不需加)。
(2)有机化学杂质多时,先报名参加3—5ml/lr的30%解决,气拌和3钟头。
(3)将3—5g/l粉状特异性在持续拌和下报名参加,再次气拌和2钟头,关拌和静放4钟头,过虑,一起清缸。
(4)清理维护保养阳极氧化挂回。
(5)用镀了镍的瓦楞纸形不锈钢板作负极,在0.5—0.1安/平方分米的电流强度下开展电解法,直到压型板表面变化为灰白色(类似暗镍颜色)才行,此系统进程约4—12钟头,杂质太多需时更长。电解法时会必需打开气体拌和或负极挪动,以发展解决实际效果。
(6)解析调节各主要参数、报名参加解决理中遗失的一部分防腐剂、湿冷剂,必需时开展霍耳槽试验,及格后就可以试镀。
抗腐蚀镀膜:防止金属被氧化、腐蚀或溶解,提高材料在恶劣环境中的耐久性和可靠性。
光学镀膜:改变光的传输、反射或吸收特性,如增透膜和反射膜。
防反射镀膜:减少光线的反射,提高透光性,常用于眼镜、光学仪器、光伏电池等领域。
硬质涂层:提高工具的硬度、耐磨性和使用寿命,如切削工具、轴承等。
装饰镀膜:增加产品的美观度和质感,常用于珠宝、手表、汽车零部件等领域。
防尘防污镀膜:减少灰尘、污渍的附着,便于清洁和维护,常见于玻璃、墙面涂料等领域。
导电镀膜:为非导电材料提供导电性能,如电子元件、触摸屏、太阳能电池等。
防腐、耐磨:在化工生产中,镀膜技术可以提高设备的耐腐蚀性和耐高温性能。通过在设备表面形成一层耐腐蚀的保护膜,可以有效防止化学物质对设备的腐蚀,延长设备的使用寿命。
提高光学性能:在光学器件上应用镀膜技术可以提高光学透射率和抗反射性能。例如,通过在镜片表面进行镀膜处理,可以减少光线的反射和散射,提高光学设备的成像质量。
基材清洁:首先,需要将待镀膜的基材进行的清洁处理,去除表面的油脂、氧化物、尘埃等杂质,确保基材表面干净,为后续的镀膜过程提供良好的基础。
真空腔体:镀膜设备内部通常有一个真空腔体,用于在镀膜过程中保持一定的真空度。这个真空环境可以避免空气中的杂质影响镀膜质量,并有助于有机高分子材料的蒸发和沉积。
真空泵:使用真空泵将腔体内的空气抽出,建立并保持所需的真空度。这个真空度通常需要在一定的范围内控制,以适应不同的镀膜材料和工艺要求。
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