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东莞拉奇纳米科技有限公司
主营：纳米镀膜
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无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。
Parylene是美国Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，由*的真空气相沉积工艺制备，能涂敷到各种形状的表面，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应随时注意水压。
在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。
镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。
真真空镀膜机这种设备。这是一种能够给物品镀膜带来一定保障的机械，而这种保障主要体现在外部因素对物品镀膜逐渐变小上。这也是这种真空镀膜机设备具有的优势所在，很多时候，真空镀膜技术都是能够给物品镀膜产生一定的稳定的作用，由于外界的因素影响比较小，所以在加工过程中也具有给镀膜带来了一定的方便了。
而这种镀膜技术也是根据各种的镀膜材料具有不同的特性，对于物品进行镀膜之后，具有特性也是不同的，而有些镀膜材料具有的特性就是光亮，那么镀膜之后的物品则是在表面上更加具有光泽
镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀
(1)镀膜设备的特点： 成膜速度快0.1- 50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?
一、产品表面洁净度不够，离子源清洗气放大时间长点。
二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。
三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。
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第6年
