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真空电镀:真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气,气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久,耐磨度好,但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。而水电镀:水电镀一般是指挂镀。
真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在HV300-600,高的甚至可达到HV700以上,而电镀镍的硬度仅为 HV160-180,显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后,其硬度还可以提高,可达HV900以上。
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发,理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。首先在光学方面,一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后,即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料,也可以作成对某种波长的吸收,而对另一种波长的透射的滤色名片。
电子束蒸发镀是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面形成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
优点:
1、电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源更大的能量密度。
2、由于被蒸发材料是置于水冷坩锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度极为重要。
3、热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热效率较高热传导和热辐射的损失少。
真空镀膜工艺流程注意事项:
1、需要加工的零部件表面状态,这包括产品是否存在缺陷,表面状态,表面污染物等。
2、表面缺陷的存在会导致外观件较终美观度。当然对于微小缺陷的存在,喷涂工艺可以掩盖。但是在注塑或者冲压成型过程中造成的批量瑕疵品必须在进货检验前剔出。
3、表面状态,这涉及是否是透明件,表面特殊粗糙度设计。设计外观状态要求的,必须在工艺制定前考虑整体工艺路线,否则完成后难以得到预想的外观效果。
4、表面污染物,对于批量产品,如何去除前段工序残留的污染物是关系质量与效率的关键。5、夹具的设计,这包括夹具是否适应全部工艺流程,是否能保证表面均匀性,装夹效率。
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