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真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
相对于传统镀膜方式,真空镀膜应用属于一种干式镀膜。真空条件下制备薄膜,环境清洁,膜不易受到污染,因此,可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。
镀膜加工的优点
简单清洁,不吸尘。
使塑料外表有导电性,改善美观,外表光滑,金属光泽彩色化,大大提高装饰性。
改进外表硬度,原塑胶外表比金属软而易受损害,经过真空镀膜技术,硬度及耐磨性大大添加。
能够提高耐候性,削减吸水率,镀膜次数愈多,孔愈少,吸水率下降,制品不易变形,提高耐热性。
真空镀膜技术之物理气相沉积技术,它利用某种物理过程,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。
真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有障碍。镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。
真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。
真空镀膜加工均匀性的概念:
1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,真空镀膜加工均匀性。
2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,薄膜,如果镀膜过程不科学,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜加工的技术含量所在。
3.晶格有序度的均匀性
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