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镀膜公司从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,真空镀膜对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。真空蒸镀技术已经广泛应用于OLED、有机光伏、光学膜、新型半导体、装饰镀膜等领域,为一种镀膜技术。 镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%。
从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、东莞电子镀膜防辐射、导电、导 磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的*性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。
手机镀膜机的工艺流程,塑料薄膜的镀铝工艺一般采用直镀法,即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理,可直接进行蒸镀。厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。而BOPP、和CPP、PE等非极性塑料薄膜,在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层,使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时,将卷筒薄膜置放于真空室内,关闭真空室抽真空。
真空镀膜有几种方式?
1、真空蒸发镀膜
在真空室中加热蒸发容器中的原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到待镀产品表面,凝结形成固态薄膜的方法。
2、离子镀膜
蒸发源的加热和蒸发镀膜相同。由于系统为等离子状态,使金属离子在产品表面吸附成膜,金属离子具有高能量,镀膜时离子结晶性佳、膜层的密着性高等。
3、磁控溅射镀膜
给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹,而在产品表面形成金属膜层的方法。
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