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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技能为基础,使用物理或化学办法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技能,为科学研究和实践出产供应薄膜制备的一种新工艺。
真空镀膜加工的基本技能要求
1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应契合GB/T6070的规则。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管,分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时,应在丈量口处设备电场屏蔽设备。
3、假如设备运用的主泵为分散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱
4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板设备。观察窗应能观察到堆积源的作业情况以及其他关键部位。
请问什么是PVD?
PVD是英文Physical Vapor Deition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
请问PVD镀膜的具体原理是什么?
离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
电阻蒸发源蒸镀法:
电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。
优点:
利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。
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