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真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备,其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。
随着科技和经济的提升,各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加,其功能也越来越完善。
真空镀膜设备普遍应用于工业生产,在与待镀工件形成薄膜的过程中,可以地测量和控制蒸发或溅射成膜材料的膜厚,从而保证膜厚的均匀性。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
真空镀膜机是现在产品在真空条件下进行镀膜使用的一种设备,一台完整的真空镀膜机是由多部分系统组成的,每个系统可以完成不同的功能。其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。
镀膜方式也分多种工艺,常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。真空镀膜机镀膜原理一般是根据实际产品工艺需求定制。
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