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镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射,增加透光率,抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的镀膜,也使的成像色彩平衡的不同。
真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。
镀膜的保护作用
1、抗酸碱腐蚀,能解决受酸性或碱性物质腐蚀的问题。
2、低水、气体渗透性、具高屏障效果,能达到防潮、防水、防锈及减缓风化等作用。
在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应,以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
镀的基本原理:在真空条件下,金属、金属合金等被蒸发蒸发,然后沉积到基体表面,蒸发法通常采用电阻加热,电子束轰击镀料,使其蒸发成气相,然后沉积到基体表面。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。
真空镀膜目的是希望减少光的反射,增加透光率,抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的真空镀膜,也使的成像色彩平衡的不同。
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