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真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术,镀层的晶料度在10纳米左右,属于纳米材料的范畴。通过对壳内壁真空镀电磁防护膜层,可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。真空镀膜技术的研究”,主要解决的是镀膜的工艺问题,包括电阻率、附着力、高温性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题。根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备,其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备,一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,形成薄膜。
对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且沉积在基片表面,经历成膜过程,形成薄膜。
真空镀膜机如何选型选用真空泵时,需要注意下列事项:
真空泵的工作压强应该满足真空设备的极限真空及工作压强要求。
如:真空镀膜机要求1x10-5mmHg的真空度, 选用的真空泵的真空度至少要5x10-6mmHg.真空镀膜机对于真空度的极限要求和工作压力强度要求越来越大,对真空泵的抽真空能力要求就越高,通常选择泵的真空度要高于真空设备真空度半个到一个数量级。
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