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真空镀膜加工中频磁控溅射
无论平衡还是不平衡,如果磁铁是静止的,其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率,可以采用旋转磁场。然而,旋转磁场需要一个旋转机构,并且应降低等待速率。
用磁控靶源溅射金属和合金容易,点火和溅射方便。这是因为目标、等离子体和飞溅零件的真空腔可以形成一个电路。但是,如果溅镀陶瓷等绝缘体,电路就会断开。
材料内部向表面扩散出来的气体,以及通过器壁滲透到真空中的气体.因此在货品进入炉内之后,都要进行保温除气,因为货品在进炉前会吸附一些杂质气体,我们要通过适当的加热,让这些气体解析脱附货品的表面。
真空电镀能为产品提供更均匀的沉积物,在某些情况下提高了六倍的附着力,更多的材料选择以及不需要处理的有害化学物质。由于PVD更环保且化学处理成本较低,像不锈钢首饰电镀、五金电镀、钟表电镀等都使用PVD进行镀膜加工。
什么是真空镀膜加工
简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
众所周知,在某些材料的表面上,只要镀上一层薄膜,就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代,在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。
电阻蒸发源蒸镀法:
电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。
优点:
利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。
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